Текст
                    Методы выращивания объемных кристаллов
Я.В. Васильев (ИНХ СО РАН)
• Исторические вехи и области применения.
• Методы выращивания кристаллов
– Производство кремния
– Российские кристаллы для Большого Адронного коллайдера

• Основные понятия макро- и микроописания процессов роста.
Мультидисциплинарность науки о росте кристаллов.
– Тепло-и массоперенос.
– Равновесная форма кристаллов.
– Элементы кинематики. Свободный и вынужденный рост кристаллов.

• Метод низких градиентов:
– Кристаллы BGO для калориметра КМД2 и метод низких градиентов.
– Рост кристаллов для поиска редких событий.

• Модель Странского-Косселя-Нормальный и послойный рост.
• Роль дислокаций.
Зависимость скорости кристаллизации от пересыщения для разных
механизмов роста.


Мотивация и вехи • Познавательный аспект • Прикладный аспект • Постепенное стирание граней между ними • Рост кристаллов – мультидисциплинарная область, для которой характерна тесная связь фундаментальной и прикладной науки, исследований и практических применений. • Масштабы лабораторного оборудования и масштабы производства различаются не радикально; • В силу сложности процесса многое остается эмпирическим, велика роль экспериментального чутья, субъективного фактора
Кеплер. О шестиугольных снежинках (1611) Kepler www.snowcrystals.com K.G. Libbrecht. Professor of Physics at Caltech
Gypsum megacrystals in Naica, Mexico (2000 г.) 1669 г. Николай Стенон: - закон постоянства углов. - анизотропия скоростей роста. Кристаллы минералов растут веками…. Экспериментальная минералогия.
“ФИЗХИМИКИ” => “Ростовики” IX век • Гиббс (1839-1903) • Вант-Гофф (1852-1911) • Тамман (1863-1938) Начало XX века • Вульф (1863-1925) • Фольмер (1885-1970) • Коссель – Странский – Каишев (1888-1956) (1897-1979) (1908-2001) “50 Years of Progress in Crystal Growth” 14-th American Conference on Crystal Growth and Epitaxy, Seattle, August 2002. Crystal Growth: Faraday Society meeting 12-14 April, 1949 H.E. Buckley. ‘‘Crystal Growth’’. Wiley, New York, 1951  ИЛ 1950  ИЛ 1954 • Teal, Leatle : Growth of Germanium Single Crystals. Phys Rev 1950 (Bell Telephone Labs) • Hofstadter: Gamma-Ray Measurements with Nal(Tl) Crystals. Phys Rev 1950 • Hydrothermal growth of quartz 1950+ U.S. Army Signal Corps; ВНИИП СССP ‘‘International Conference on Crystal Growth: Growth and Perfection of Crystals Cooperstown, New York D. Turnbull (General Electric). First International Conference on Crystal Growth, Boston 1966 1958  ИЛ 1968
CCCP занимал лидирующие позиции в мире в области науки и практики роста кристаллов А.А.Чернов, Е.И. Гиваргизов, Х.С.Багдасаров, В.А. Кузнецов, Л.Н. Демьянец, А.Н. Лобачев. Современная кристаллография (в четырех томах). Том 3. Образование кристаллов. Наука 1980. Тираж 8000 экз. ……………………………………………………………………. ……………………………………………………………………. В.А. Татарченко. Устойчивый рост кристаллов. М.: Наука. 1988. Тираж 2000 экз. Кузьминов Ю.С., Ломонова Е.Е. Осико В.В. Тугоплавкие материалы из холодного Тираж 400 экз. тигля. Наука 2004, 369 с. Х.С. Багдасаров. Высокотемпературная кристаллизация из расплава. Москва Физматлит 2004. Тираж 400 экз. О.И. Подкопаев, А.Ф. Шиманский. Выращивание монокристаллов германия 100 экз. с низким содержанием дислокаций и примесей. Красноярск СФУ 2013, 104 с. Л.Н. Рашкович. Физика кристаллизации. Учебное пособие. М. Научный мир 2015, 102 с. Тираж 500 экз.
Области приложений объемных кристаллов  Полупроводниковая электроника интегральные схемы, силовая электроника, солнечная энергетика…  Оптика "обычная” оптика – проходная и поляризационная", лазерная техника, Аl2O3:Сr3+, YAlO3:Nd3+ (ИАП), Y3Al5O12:Nd3+(ИАГ),, Cd3Se2Ga3O12:Nd3+(ГГГ), ВeАl2O4:Сr3+, KGd(WO4)2:Nd3+(КГВ), (Nd, Cr, Er, Yb, Ho, Tm….) LiYF4:Nd3+; нелинейная оптика - преобразователи лазерного излучения, модуляторы, дефлекторы… LiNbO3 (LNO), KH2PO4 (KDP), KTiOPO4 (KTP), βBaB2O4 (BBO), LiB3O5 (LBO) …. светодиодные источники света AlGalnP/GaAs, AlGalnP/GaP и InGaN на сапфире Al2O3.  Пьезо- и акусто- и оптоэлектроника фильтры на ПАВ (SAW): SiO2, LiNbO3, LiTaO3, Bi12GeO20, Bi12SiO20, La3Ga5SiO14….  Сцинтилляторы регистрация ионизирующих излучений: NaI(Tl), CsI(Tl), ZnS, ZnSe, Bi4Ge3O12 (BGO), PbWO4 (PWO), Lu2SiO5:Ce, LaBr3(Ce)….  Конструкционные материалы рубин, сапфир (Al2O3): часовая промышленность (защитные “стекла”), медицина (имплантаты);.. алмазный инструмент; монокристаллические лопасти турбин в авиации (суперсплавы, ВИАМ).  Ювелирная промышленность рубин, сапфир, изумруд Be3Al2Si6O18:Cr+3, кварц, александрит (BeAl2O4:Cr+3) ИАГ, ГГГ… Преобразователи информации и силовые преобразователи Объемные монокристаллы (balk crystals) и слои. Рост из газовой фазы, МЛЭ…
Оценка объемов производства кристаллов для важнейших приложений (H.J. Scheel) Оценка объемов 2000 year totally : 20 000 тонн 5% 3% 10% SEMICONDUCTORS 60% SCINTILLATION CRYSTALS 12% 10% OPTICAL CRYSTALS 10% 60% 12% ACOUSTIC OPTIC CRYSTALS 10% LASER & NONLINEAR CRYSTALS 5% JEWELRY & WATCH INDUSTRY 3% Nearly 10%, with most of the scintillators for nuclear physics produced in China, Ukraine, Belorussia and Russia.
Сцинтилляторы http://scintillator.lbl.gov (Lawrence Berkeley National Lab)
• • • • • • • • • Сцинтилляционная эффективность Энергетическое разрешение Время высвечивания Спектр высвечивания Пропорциональность Гигроскопичность Плотность Цена …………. Budgeting efforts Nomenclature Search => Development => Application
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 65, No. 8, 2018 History (1940–2017) of first publication of scintillators with light output of > 20000 ph/MeV, representing scintillators published in peer-reviewed articles, excluding those containing Rb, Lu, and K due to a high natural radioactivity background not suited for the national security applications. Blue bars: new compounds. Yellow bars: known compounds with new activator or codoped. Red letters: commercial products. Green letters: under development.
Двойные щелочно-редкоземельные вольфраматы иKGW1 молибдаты M+R3+[Mo(W)O4]2 = Li, Na, K, Rb, Cs, Cu, Ag, Au, Tl... R = Ln, Bi, In, Sc, Y, Al, Gd, Fe, Cr... П.В. Клевцов: начало 1960-х годов Методы исследования: o o o o o изучение фазовых диаграмм; твердофазный синтез; осаждение из растворов; порошковая рентгенография; выращивание кристаллов для определения кристаллографической структуры и изучения физических свойств соединений.
Монокристаллы калий-гадолиниевого вольфрамата, KGd(WO4)2, KGW: Nd3+ впервые были выращены в ИНХ СО РАН в 1975 году. 1977-1985 гг ПЕРЕДАЧА ТЕХНОЛОГИИ  ГОИ  завод Оптик, Лида (МОП). Кристаллические и оптические характеристики KGW:Nd класс симметрии 2/m параметры решетки, А a=8.095, b=10,43 c=7.588, b=94.43° растворимость в воде нерастворимый оптическая ориентация Np = b, Ngc = 20° угол между оптическими осями, угл. град. 86.5 твердость 4-5 плотность, г/cм-3 7.27 область прозрачности, мкм 0.35-5.5 порог оптического разрушения, Гвт/см2 20 KGW Спектроскопические и лазерные характеристики KGW : Nd длина волны (4F3 / 2 -> 4I11 / 2), мкм 1.0672 время жизни (3% Nd), 10-6сек 110 поперечное сечение перехода, см-2 4.3*10-19 ширина линии люмин., см-1 24 эффективность лазера, % (АЕ: диам.-6.3мм, длин.-75 мм, 50Hz) 4-6 мощность излучения ,W 40-60 порог излучения , J 0.2-1 эффективность CW , % 3 эффективность диодной накачки (quasi-CW), % 60
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ ОБМОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
РОСТ ИЗ РАСТВОРА Традиционный режим: скорость кристаллизации ~1 мм в сутки  Роль подвода вещества к растущей поверхности  Возможность наблюдения за растущей поверхностью Раньше имел большее значение кристалл KNaC4H4O6∙4H2O – сегнетова соль Аншелес , Татарский, Штернберг Скоростное выращивание кристаллов сегнетовой соли. Ленинград, 1945. Кристаллизатор 40х-50х гг. KH2PO4 (KDP); KTiOAsO4 (KTA) NaCl но можно выращивать методом испарения
KH2PO4 (KDP) Один из ангаров лазерных линий (192 линии) для управляемого термоядерного синтеза в Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL), National Ignition Facility (NIF) для экспериментов с пучком сечением около 30 x 30 см. This potassium dihydrogen phosphate (KDP) crystal, weighing almost 800 pounds, was produced through a newly developed rapid-growth process that takes only two months, as opposed to two years using conventional methods. Each crystal is sliced into 40-centimeter-square crystal plates. More than 600 of these plates are needed for NIF. Once all the NIF KDP optics are complete, approximately 75 production crystals will have been grown totaling a weight of nearly 100 tons.
KDP2
KDP3
KDP2
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
Метод Вернейля ~ 1900 г. Рубин Al2O3 (Cr) t плавления ~ 2050 oC 1907 1913 1999 1 тонна 2 тонны ~250 тонн Скорость опускания пьедестала => скорость кристаллизации Скорость подачи шихты => диаметр кристалла
Вернейль Verneuil 1904 2
Цех установок роста сапфира методом Вернейля Verneil Кристаллические були сапфира. OOO “КОРУНД”, Дзержинск
Общие приемы: - затравка - necking (перетяжка) - разращивание конуса Вернейль 3 Проблемы: • трудно управлять условиями роста, • высокие градиенты температуры проводят к напряжениям в кристалле Преимущества: возможность выращивать тугоплавкие соединения Иные способы нагрева: - плазменный - лучевой
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
МЕТОД БРИДЖМЕНА-СТОКБАРГЕРА VB/HB : Vertical/Horizontal Bridgman growth VGF/ HGF : Vertical/ Horizontal Gradient Freeze growth Al2O3, GaAs; InP, InSb, ZnS ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe… Сапфир (ИК РАН, Багдасаров) Кристаллизационная установка “Сапфпир 1”
Бриджмен 3 VGF VB Vertical gradient freeze growth Vertical Brigman method Проблема перемешивания расплава: The Accelerated Crucible Rotation Technique (ACRT)
НТК «Інститут Монокристалів» НАН України
VGF-System The Vertical Gradient Freeze / Vertical Bridgman Crystal Growth System "Kronos" is a modular furnace system designed for the high throughput industrial growth of low dislocation compound semi-conductor crystals of e.g. GaAs or InP with diameters up to 6 inch. The furnace can be operated under vacuum for scavenging, under inert gas at pressures of 3 to 5 bar for the growth of GaAs in an open process with liquid encapsulation and under inert gas at pressures of 35 to 40 bar for the growth of InP in a semi-closed quartz ampoule. For each of the various materials and crystal diameters, exchangeable core modules can be plugged into the furnace module and will be recognized by the control system automatically. The furnace module is as standard equipped with three electrical resistance heating elements, a robust feed through and contacting assembly and a graphite insulation package. Custom heater configurations of up to seven heaters can be accommodated. The control system is based on a highly reliable PLC designed for fully autonomous operation, supported by an ethernet linked PC console for process parametrization, data logging, and process history visualization. Various program modes from automatic growth mode to supervisor mode with valuable tools for process optimization are available.
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
МЕТОД ЧОХРАЛЬСКОГО Czochralski, 1918 (CZ) 1 - растущий кристалл, 2 - расплав, 3 - нагреватель, 4 - дополнительный нагреватель • Кристалл не касается стенок тигля • Вращение перемешивает расплав Si 1414 oC Параметры - Ориентация затравки - Скорость вытягивания - Скорость вращения - Газовая среда - Конфигурация теплового поля

Silicon Производство кристаллического кремния Vкр ~ 2 мм/мин (©"Smithsonian", Jan 2000, Vol 30, No. 10)
Si 100=>450 mm
Step Получение поликремния Description of Process Reaction 1 Produce metallurgical grade silicon (MGS) by heating silica with carbon C(s) + SiO2 (s)  Si (l) + SiO(g) + CO (g) 2 Purify MG silicon through a chemical reaction to produce a silicon-bearing gas of trichlorosilane (SiHCl3) Si(s) + 3HCl(g)  SiHCl3 (g) + H2 (g) + heat 3 SiHCl3 and hydrogen react in a process called Siemens to obtain pure semiconductorgrade silicon (SGS) 2SiHCl3 (g) + 2H2 (g)  2Si(s) + 6HCl(g) 2SiHCl3 ↔ SiH2Cl2 + SiCl4 2SiH2Cl2 ↔ SiH3Cl + SiHCl3 2SiH3Cl ↔ SiH4 + SiH2Cl2 SiH4 ↔ Si + 2H2
Silicon purity O <0,2 ppm <0,02ppm C <0,1 ppm <0,01ppm P,B <10 ppt <0,5 ppt Al, As, Sb, Ga, In <5 ppt < 1 ppt Fe <0,4 ppb <0,1 ppb Cr <0,01 ppb <0,01 ppb Ni <0,2 ppb <0,1 ppb Cu <0,02 ppb <5 ppt

Мировое производство полупроводникового кремния 70 61 60 52 Тыс. тонн 50 42 40 30 65 28 32 36 20 10 0 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2013 г: 200 тыс. тонн (pv) + 28 тыс. тонн 2008 г. : 90% производительных мощностей контролируют 9 крупнейших компаний из США, Германии, Японии и Италии; активно вводит новые мощности Китай Производство в СССР ~1000 тонн (10% от мирового) Министерство электронной промышленности и Министерство цветной металлургии. Поликремний - Запорожье. Рост кристаллов: Зеленоград, Подольск, Запорожье, Красноярск. Россия «Россия становится важным игроком мирового рынка солнечной энергетики» (2008) Проект Железногорского горно-химического комбината Минатома (Красноярский край) Компания Нитол Соляр (Усолье-Сибирский силикон)
Для изготовления солнечных батарей используют преимущественно Si (94%), в основном, мультикремнй (~70%), выращиваемый методом Бриджмена PHOTOVOLTAICS REPORT www.ise.fraunhofer.de Freiburg, July 2017 16  6 g/Wp за 12 лет Silicon Wafers 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014 Area (MSI) 8,66 8,14 6,71 9,37 9,04 9,03 9,07 10,01 10,43 Revenues ($B) 12.1 11.4 6.7 9.7 9.9 8.7 7.5 7.6 2015 7.2

Производство мультикремния направленной кристаллизацией http://www.pveducation.org
ГЕРМАНИЙ Мировое производство ~100 тонн/год; кристаллы ~1/3 объема потребления Россия ~10%; Украина ~3%=>0?? АО «ГЕРМАНИЙ», Красноярск Коаксиальный германиевый детектор (HPGe detector) Примеси не более 1010 ат/см3
Ge
КОНСТРУКЦИОННЫЕ МАТЕРИАЛЫ R.C. Ropp. Solid State Chemistry
ВЧ нагрев в методе Чохральского Early growth of CaWO4 crystal (Brandle) tпл ~ 1600 oC
Cz growth of single crystal LSO 2070 oC Lu2SiO5:Ce Сцинтиллятор
LSO production boules Picture of 50 boules
Выращивание шелочногалоидных кристаллов – сцинтилляторов NaI(Tl) и CsI(Tl) Харьков, Институт сцинтилляционных материалов Схема ростовой печи установки «РОСТ». 1- платиновый тигель с периферической кольцевой емкостью 3, 2 - кристалл, 4 - питатель, 5 - транспортная трубка, 6 - боковой нагреватель, 7-отверстия, 8-экран тигля, 9 - расплав, 10-датчик уровня расплава, 11 - разъем между полукорпусами.

Метод конического тигля The key technological improvements made it possible: • to pull large-size ingots (up to 600 mm in diameter and 750 mm long); • to vary a growth atmosphere; • to maintain constant (with an accuracy of up to 5%) distribution of dopants in a crystal; • to grow crystals at a high rate; • to purify raw materials at a pregrowth stage; • to grow scintillation crystals with high transparency and uniform luminescence characteristics; • to develop pollution-free technology.
Основа современной электромагнитной калориметрии - кристаллы PbWO4 (PWO). Вклад России NaI(Tl) BGO PWO Плотность, г/см3 3,7 7,13 8,3 Время высвечивания, нс 230 300 6 100% 20% ~0.5 % Световой выход % LHC: Большой адронный коллайдер. 27 км по окружности, на глубине 50-170 м Детекторные станции: • • •  CMS (Compact Muon Solenoid) ALICE (A Large Ion Collider Experiment) ATLAS (A Toroidal LHC ApparatuS) LHCb (The Large Hadron Collider beauty experiment) • ……… ……………………………… • ……… ……………………………… Низкий световыход не является препятствием для регистрации излучения энергией десятки гэВ
CMS Compact Muon Solenoid There are exactly 75,848 crystals in the ECAL (~110 тонн). 2.2 x 2.2 x 23 cm in the barrel and 3 x 3 x 22 cm in the endcaps
• 1990: Первые кристаллы PWO: “Монокристаллреактив” (Харьков) • 1992: Изучение свойств: НИИ ЯП (Минск), ИФВВ (Протвино) • Технология и производство исходных ЗАО НеоХим, Москва (корни – ИРЕА Минхимпрома реактивов и шихты PWO: СССР) • Массовое производство PWO: "Богородицкий завод технохимических изделий”. 120 установок Донец 3 и Лазурит. Завод “Северные кристаллы”, г. Апатиты. Установки РУМО. • Координация и НИР-- производство: CMS: Команда “ИФВВ (Протвино) – Богородицк” Системы автоматического тестирования ALICE: Команда “Курчатовский институт – Северные кристаллы” ЦЕРН Прочие производители: Китай менее 5%
54
Оборотная сторона медали(ей) На сайте CERN, CMS (cms.web.cern.ch/cms) : “No ordinary crystal. Russian factory in a former military complex took on the job of producing most of the crystals, whilst the remainder were produced in China.” Богородицкий завод – флагман МЭП СССР. Приватизирован в 1994 г. До реформы производил кристаллы ниобата лития LiNbO3,, -материал с регулярным потреблением, востребованный на мировом рынке. PWO с низким световыходом применим только в физике высоких энергий. Объявления о несостоятельности Определением Арбитражного суда Тульской области oт 25.02.2010 г. №А68–424/10 в отношении ОАО «Богородицкий завод технохимических изделий» (301800, Тульская область, г. Богородицк, ул. Луначарского, д. 6, ОГ'РН 1027102671310, ИНН 7112004782) введена процедура наблюдения. Временным управляющим утвержден Пробейголов Олег Иванович, член НП СРО «Паритет» (140800, Россия, Московская область, г. Дмитров, ул. Промышленная, д. 3, часть 1). Требования принимаются по адресу: 107078, г. Москва, а/я 281. Судебное разбирательство по делу о признании несостоятельным (банкротом) состоится 21 июля 2010 г. в 10.30, в помещении суда по адресу: г. Тула, Красноармейский проспект, д. 5, зал 105 Награждены посмертно?
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
LEC: Liquid Encapsulated Cz technique Рост под флюсом GaAs at Frieberger
Метод Киропулуса (1926) Nacken, 1916, Рост салола Сапфир Al2O3 Метод ГОИ (Мусатов, 1971) YouTube: Энергомера производство монокристаллов
Modern trends in crystal growth and new applications of sapphire. Journal of Crystal Growth 360 (2012) 134–145 Akselrod M. S., Bruni F. J (USA) 90 kg “The practice of using Musatov’s GOI method conflicted with established opinion and theoretical assertions that high quality crystals can be grown only with a flat crystallization front and that high quality crystals could not be achieved using low temperature gradients.”
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ Intro 1. Вернейля 2. Бриджмена-Стокбаргера 3. Чохральского (CZ) 3а. LEC Liquid Encapsulated Czochralski growth. 3б. Метод Киропулуса 3в. Метод конического тигля 3г. Метод холодного тигля 4. Другие методы 4.1. Метод бестигельной зонной плавки 4.2. Метод Степанова (EFG). 1938 4.3. Micro-PD …………… 5. Рост из растворов 5.1. Воднорастворимые кристаллы (KDP: KH2PO4) 5.2. Гидротермальный метод. Кварц. 5.3. Выращивание из высокотемпературных растворов (Flux CZ)
Зонная плавка СХЕМА МЕТОДА БЕCТИГЕЛЬНОЙ ЗОННОЙ ПЛАВКИ Schemes of FZ techniques: ith needle eye without needle eye Pedestal growth The dark hatched area is the growing crystal, the lighter hatched area is the feed rod and the white dashed area is the molten zone.
Optical Floating Zone Techniqe Single crystal of incongruently melting La2-xBaxCuO4 grown by FZ technique (1 mm/h 180 kPa O2)
СХЕМА МЕТОДАСтепанов СТЕПАНОВА (1938) EFG: Edge-defined Film fed Growth P=σlg (1/R1+1/R2) Уравнение Лапласа Форма или элемент формы, которую желательно получить, создается в жидком состоянии за счет различных эффектов, позволяющих жидкости сохранить форму, затем сформированный так объем жидкости переводится в твердое состояние в результате подбора соответствующих условий кристаллизации
Капиллярное формообразование Степанов Равновесный угол роста Твердое Твердое Газ Газ Жидкость Жидкость o  sg2   lg2   sl2 cos 0  2 sg lg В.В. Воронков, 1963

Micro pulling down Градиенты ~3000 K/см Скорости кристаллизации ~10 мм/мин First the growth kinetics, composition stability and crystallinity become clear by testing in a low-cost, material- and time-saving fiber pulling apparatus before the material is recommended (or rejected) for Czochralski bulk growth. Such approach shows very effectively for materials research, especially, in university and institute laboratories.
Micro-PD
Основные понятия макро- и микроописания процессов роста кристаллов • Мультидисциплинарность науки о росте кристаллов. Тепло- и массоперенос. • Равновесная форма кристаллов. Элементы кинематики. Свободный и вынужденный рост кристаллов. - Низкоградиентный метод Чохральского и рост кристаллов BGO для калориметра КМД-2. - Рост кристаллов для поиска редких событий. • Модель Странского-Косселя. Нормальный и послойный рост. Роль дислокаций. Зависимость скорости кристаллизации от пересыщения для разных механизмов роста.
Sheel2 Sheel-1
Road map for scintillator Discovery and Development Multidisciplinary collaboration: Computation science, chemistry, physics, crystal growth, instrumentation 1. Candidate selection over 450,000 combinations •Phosphor and scintillator literature •Crystal database ICSD/PDF/Phase diagrams etc. •Selection rules Computational techniques and development of empirical models 2. High-throughput synthesis and characterization over 1,000 samples/year 3. Rapid crystal growth and characterization about 100 crystals/year Microcrystalline powder samples and characterisation (x-ray+optical) Small crystals (x-ray+optical+ gamma response) Develop crystal growth process to 1.5 inch 4. Scale-up of crystal growth Transfer to industry Scint2011 Sept.12, 2011 Giessen Germany

Тепло-массоперенос при росте кристаллов • • Математическое и физическое моделирование потоков в методе Чохральского (В.С.Бердников, ИТ СО РАН) • • ИЗ РАСПЛАВА Теплопроводность кристалле и в жидкой фазе Теплоперенос излучением кристалле и в жидкой фазах Естественная и вынужденная конвекция в жидкой фазе. Конвекция Марангони Czohralski growth of CaF2 Temperature fluctuations at center of crucible about 1 mm below surface, as recorded using tungsten-rhenium thermocouple. W. R. Wilcox… J.Apl. Phys. 36 (1965) No. 7. …..the striations is observed in Czochralski grown crystals….
Interface shape changes during the Czochralski growth of gadolinium gallium garnet (Gd3Ga5O12) “Spiral growth” DyScO3 SmScO3 B. Cokayne et al, 1976 Результаты расчета. Мамедов, Юферев Письма в ЖТФ, 2008 Cryst. Res. Technol. 43, No. 6, 606 – 615 (2008)
Тепло-массоперенос при росте кристаллов Софтимпакт http://www.str-soft.com Temperature distribution CZ Si ø100 mm Temperature gradients Thermal stresses Проблема измерения теплофизических характеристик кристаллов и расплавов…
Математическое моделирование процессов тепло-массообмена при росте кристаллов Bi12GeO20 низкоградиентным методом Чохральского Совместная работа с ФТИ им. Иоффе РАН: J. Cryst. Growth, 312, 28142822 (2010). Задача: Нахождение распределения температуры на зонах нагревателя, при котором форма фронта остается неизменной на стадии роста кристалла постоянного сечения. Критерий оптимизации: При заданной формы фронта найти такое тепловыделение на каждом нагревателе, при котором невязка теплового баланса на фронте была бы минимальной на всех стадиях роста кристалла. F (Q1, Q2 , Q3 )   ((q S  n)  (q L  n) LV cos(n, Z))2 dS Qi – тепловыделение и i-ой секции нагревателя, qS и qL – векторы плотности потока тепла в твердой и жидкой фазах, V – скорость кристаллизации, L – теплота плавления, n – нормаль к фронту кристаллизации Корректировка распределения температуры, град. Управление тепловыделением: суперпозиция сигнала обратной связи по весу и программного сигнала (перераспределение температуры на зонах нагревателя) 10 Нижняя зона Верхня зона 0 -10 -20 0 10 20 30 40 Длина кристалла, мм Схема низкоградиентного метода Чохральского Программирование температуры Расчетные линии роста и кристаллы, относительно средней зоны выращенные в оптимизированном режиме
Теория и эксперимент Brandle, J Cr. Growth 264 (2004) 593 R.C. Ropp. Solid State Chemistry, p. 265 D.T.J. Hurle : “Had Czochralski and Teal and Little come along to the modellers today proposing their technique, what reception would they have had? They might well have been told that the technique was most unpromising. They would have learnt that the process was dynamically unstable, yet to achieve near-constant crystal diameter would require control of the meniscus height to a precision of a few tens of microns. Further, the thermal configuration was that of the Benard cell which would lead to turbulent convection with marked temperature fluctuations which would render control of the meniscus height with the required precision nearly impossible. Anyway, by promoting growth on the surface of the melt where the scum collected they were inviting a generation of manner of crystal defects. Further, being a batch process, it would not be …. suited to commercial production. So one can see that it is perhaps as well that theory tends to follow experiment!”
АНИЗОТРОПИЯ ПОВЕРХНОСТНОЙ ЭНЕРГИИ И РАВНОВЕСНАЯ ФОРМА КРИСТАЛЛА ECS: equilibrium crystal shape Гиббс 1878 Кюри 1885  S i i  min • σ - изменение свободной энергии, необходимое для образования единичной площади поверхности раздела • В твердом теле величины свободной поверхностной энергии и поверхностного натяжения различаются (в отличие от жидкости)   (n)dS  min initial split
АНИЗОТРОПИЯ ПОВЕРХНОСТНОЙ ЭНЕРГИИ И РАВНОВЕСНАЯ ФОРМА КРИСТАЛЛА Гиббс 1878 Кюри 1885  S i i  min   (n)dS  min ПОСТРОЕНИЕ ВУЛЬФА 1901 г. Кристалл ограняется гранями, расстояние до которых от центра роста пропорционально энергиям этих граней σ1 : σ2 : σ3… = h1 : h2 : h3 … Козлова, 1980, с.31 Construction of the equilibrium shape based on the polar diagram of the surface energy Ivan Markov. Crystal Growth for beginners, p 30.
АНИЗОТРОПИЯ ПОВЕРХНОСТНОЙ ЭНЕРГИИ И РАВНОВЕСНАЯ ФОРМА КРИСТАЛЛА 1. Сингулярным минимумам соответствуют плоские грани 2. Равновесная форма может не иметь плоских граней 3. На равновесной форме могут сосуществовать гранные и округлые участки
Реальность понятия равновесной формы? ECS: equilibrium crystal shape Wolf3 Леммлейн, Клия, Институт кристаллографии АН ДАН (1955) т. 100 № 2 Насыщенный раствор NH4Cl при 40 оС между покровными стеклами • Наблюдалась эволюция кристаллов размером 10 -100 мкм • Оценка времени достижения равновесной формы: 10 мкм – 2,5 часа 100 мкм – ~ 3 месяца Макрокристаллы образованы в неравновесных условиях по отношению к поверхностной энергии Дело не только во временах астрономического масштаба: - невозможно достигнуть достаточной для равновесия изотермичности; - вклад энергии дефектов в кристалле превосходит вклад поверхностной энергии. Нанокристаллические порошки, туннельная микроскопия (размер – сотни нм)
ЭЛЕМЕНТЫ КИНЕМАТИКИ Кинематика и кинетика. Огранение кристаллов, как следствие анизотропии скоростей роста Выклинивание быстрорастущих граней на выпуклой поверхности Vк Vк1 > Vк2 Эволюция округлых форм и кинематический аналог теоремы Вульфа Кинематика форм растворения и формы растворения
ЭЛЕМЕНТЫ КИНЕМАТИКИ Эволюция искусственно созданной шаровой формы кристалла в анизотропную форму роста (Б. Хонигман. Рост и форма кристаллов. Стр. 87.) Последовательные стадии геометрического отбора кристаллов. (Современная кристаллография, стр. 221)
necking
ПЕРЕСЫЩЕНИЕ Газовая фаза или раствор ∆P=P-P0 ∆P=(P-P0)/P0 ∆C=C-C0 ∆C=(C-C0)/C0 Расплав Имеются в виду величины на растущей поверхности
Свободный и вынужденный рост кристаллов По способу управления пересыщением различают свободный и Св-вынужд вынужденный рост кристаллов. При вынужденном росте условия метода принудительно задают скорость кристаллизации, а пересыщение в стационарном режиме «подстраивается» в соответствии с заданной скоростью кристаллизации. При свободном росте задается концентрация и/или температура среды. В зависимости от условий может реализоваться диффузионный или кинетический режим.
Вынужденный рост. Примеры методов Метод зонной плавки 1 - растущий кристалл, 2 - расплав, 3 - нагреватель, 4 - дополнительный нагреватель Метод Чохральского Vertical Brigman method
Свободный рост - рост из раствора
ГИДРОТЕРМАЛЬНЫЙ СПОСОБ Происхождение: экспериментальная минералогия ZnS, ZnO, CaCO3, Al2O3, CaMoO4, Bi4Ge3O12 .... Выращивание SiO2 (пьезокварц): ИК АН 1946-1951 и ВНИИСИМС, г. Александров 1954-1963 ВНИИП Минерализаторы: NaOH, KCl Давление до 3000 атм Температура до 600-800 оС (кварц 350-400 оС) Скорость роста ~ 0,1-3 мм в день 1 – раствор под давлением ~1000 атм.; 2 – затравка и кристалл; 3 - печь; 4 - вещество для кристаллизации. Цифры на кривых – коэффициент заполнения при комнатной температуре NaOH 10% вес. K2CO3 10% вес.
Свободный и вынужденный рост кристаллов Св-вынужд По способу управления пересыщением различают свободный и вынужденный рост кристаллов. При вынужденном росте условия метода принудительно задают скорость кристаллизации, а пересыщение в стационарном режиме «подстраивается» в соответствии с заданной скоростью кристаллизации. Быстро- и медленнорастущие грани при вынужденном росте: развитие медленнорастущих граней: анизотропия переохлаждения Кристалл ΔT(Vкр ), gradT Кристалл в сильно неоднородном тепловом поле – искривленная ступенчатая поверхность => округлая поверхность. В градиентном поле огранен только растущий кристалл. Нормальный и послойный рост.
Silicon Производство кристаллического кремния Vкр ~ 2 мм/мин (©"Smithsonian", Jan 2000, Vol 30, No. 10)
Схема метода низких градиентов (LTG Cz) и его основные особенности п е ч ь Шток затравкодержателя Платиновая крышка Термопары Нагреватель Т р е х з о н н а я Кристалл Платиновый тигель Расплав Керамический пьедестал Кварцевая труба Электронные весы  В течение всего процесса роста кристалл остается внутри тигля;  автоматический весовой контроль процесса сразу после затравления;  температурные градиенты ~ 1 K/см;  колебания температуры в расплаве, приводящие к неоднородности кристалла, становятся малыми;  термические напряжения снижаются до уровня, при котором они не приводят к образованию дефектов в кристаллах;  ввод штока затравки через патрубок, играющий роль "диффузного затвора", а также уменьшение максимальной температуры расплава подавляет процессы разложения и испарения расплава;  преобладающим становится слоевой механизм роста, причем фронт кристаллизации оказывается полностью ограненным;  диаметр кристалла ~0,8 от диаметра тигля
Морфология кристаллов Bi4Ge3O12 (BGO) при росте из расплава Схема образования псевдограней при росте кристаллов BGO вытягиванием из расплава в условиях низких градиентов температуры
Influence of growth rate on BGO shaping Kinetic Nature1 Faceted areas developing at increasing growth rate Pulling along [100] direction
Thermocouples Growth equipment for LGT Cz, designed at NIIC ~1 litre max Old generation laboratory puller HX620 BGO, crucible Ø100x250 mm ∆T, град. 0 -5 -10 Temperature practically does not change after end of cone part growth
Bi4Ge3O12 (BGO). Советский период 1984-85 1986–88  Применение низкоградиентной технологии для выращивания BGO; передача на КЗЦМ установки УВМ-135  Изучение сцинтилляционных свойств в зависимости от условий роста (совместно с ИЯФ)  Экспериментальные элементы BGO для:  Макета электромагнитного калориметра (ИТЭФ, Москва)  ПЭТ-томографа;  Систем контроля авиабагажа (ИПФ, Новосибирск),  Геологоразведки (БерезовГео), 1989  Внедрение технологии на ГП “ГЕРМАНИЙ” 1989-90  Внедрение на Опытный Завод СО РАН 1990-91  Производство ~600 кристаллов для калориметра КМД-2 на ГП “ГЕРМАНИЙ” и ОЗ СО РАН (МП ВИСТЕЛ) 1990-93  Передача технологии АЭХК МИНАТОМа по программе конверсии; работы по росту большеразмерных кристаллов BGO.  Программа ГКТН CCCP: начаты работы по комплексному исследованию свойств кристаллов BGO (совместно с ИГИГ СО РАН и ЦМ Латв. ССР). Кристаллы BGO, выращенные из тигля диаметром 70 мм. Элементы BGO для опытного образца позитронно-эмиссионного томографа, изготовленные для ВНИИКП в 1986/7 гг.
Кристаллы для BGO-калориметра детектора КМД-2 в ИЯФ СО РАН им. Будкера, 1990-1992. Upgrade 2002-2004. 680 BGO bars with dimensions: Pt crucible: Ø100 mm x 250 mm height 800 700 600 500 400 300 200 100 0 I II III IV I II III IV I II III 1990 1990 1990 1990 1991 1991 1991 1991 1992 1992 1992 Красноярск 40 55 87 150 205 277 322 377 401 407 407 Нов осибирск 0 23 51 88 121 180 225 256 302 328 357 ВСЕГО 40 78 Прогресс 138 в238 326 457 547 и633 703 735 технологии. Световыход неоднородность 764 За кв артал 40 b) - заводских c) и d) 32 38 световыхода: 60 100 a) и88 131 90элементов; 86 70 29 элементов, изготовленных ИНХ в 1993 и в 1995 гг.
~9 л Производственная установка НХ780
Безнейтринный 2β–распад (A,Z)(A,Z+2) + 2e- + 2νe двойной бета-распад допускается классической теорией. Впервые зарегистрирован в 1950 г. в геохимическом эксперименте с 130Те и в в 1987 г. в прямом эксперименте с 82Se. (A,Z)(A,Z+2) + 2e- ?? Существование безнейтринного двойной бета-распада означает необходимость пересмотра положений Стандартной модели частиц, наличие у нейтрино массы покоя, несохранение лептонного заряда….. 70Zn, 76Ge, 82Se, 100Mo, 116Cd, 130Te, 136Xe….. 76Ge=>76Se 116Cd =>116Sn Heidelberg-Moscow 2003 Y ! T1/2 1.91025 yr T1/22 = 2.9 лет T1/2  1.7(2.6) 1023 лет
Проблемы, связанные с ростом CdWO4, ZnWO4, ZnMoO4 и других соединении Me2+[(W,Mo)O4]2  Повышенная тенденцию к растрескиванию при возникновении термоупругих напряжений, связанная с существованием в их структуре плоскости спайности.  Изоморфное вхождение в решетку катионов металлов группы железа: низкая эффективность перекисталлизации для улучшения качества кристаллов; переплавка кристаллических обрезков ??  Летучесть компонентов расплава => нарушение исходного отношения Me/(W,Mo) в процессе роста.  Отклонению по стехиометрии по кислороду (Zn,Cd)WO4 => (Zn,Cd)WO4-x + x/2O2 Рост кристаллов для поиска редких событий  Радиоактивная чистота прекурсоров  Высокая стоимость используемых изотопов (2β-распад)
Growth of 106CdWO4 crystal for double beta decay search When working with monoisotopic raw material the important task: to provide maximal charge use factor Crucible: • Raw charge: • Crystal weight: • Crystal diameter: • Losses: • Residuals in crucible Ø 40 x 100 mm 265 g 230.5 g ~27 mm <0.8 g 33.7 The sample is transferred to INR (Kiev, Ukraine) and then the measurements will be done at Gran Sasso Underground Lab of INFN (Italy)

Isotopically enriched crystals Zinc molybdate crystal boule enriched with isotope 100Mo Enriched Li2100MoO4 crystal scintillators produced for the LUMINEU/CUPID-Mo pilot experiment
Модель Косселя-Странского (1927) Kossel1 ψ=2ΔH/z Ψ- энергия взаимодействия ближайших соседей 1 — адсорбированный атом (адатом) 3 – полукристаллическое положение (повторимый ход) 2, 4 — адатом на ступени 5, 6 – вакансии
Моделирование атомной структуры грани на ЭВМ Monte-Carlo Нормальный и послойный рост кристаллов Цифры – ψ/kT Небольшое изменение ψ/kT приводит к кардинальному изменению “шероховатости” поверхности
Приближение Джексона Jackson-f Z1 — число ближайших соседей на плоскости Z — координационное число атома в объемном кристалле NA – число адатомов θ = NA/N — степень заполнения поверхности ψ — энергия связи ближайших соседей Изменение энергии: Конфигурационная составляющая энтропии: Изменение свободной энергии: ∆Gf = ∆ Uf - T∆Sf Зависимость свободной энергии от степени заполнения поверхности: Здесь
КРИТЕРИЙ ДЖЕКСОНА (1965) α= ξL/RT L – скрытая теплота превращения; ξ <1 зависит от структуры кристалла Условие возникновения гранных форм: α>2 L/RT>~4 При росте из раствора тенденция к огранению проявляется сильнее.
Рост кристаллов германия: ΔHпл/RTпл ≈3,6 Рост по <111> Z1/Z=3/4 Рост по <100> Z1/Z ≈ 0,5
Начальная стадия роста кристаллов германия по <111> и по <100>
Двумерное гетерогенное зародышеобразование nucleation 𝛥𝐺 = −𝛥𝜇𝜋𝑟 2 + 2𝜋𝑟𝛼 Crystal face of linear size L with growing 2D islands on top of it. Illustration of the mulitilayer growth of a crystal face with a size L by 2D nucleation. Supersaturation dependence of the rate of 2D growth in the case of layer-by-layer growth (curve 1) and multilayer growth (curve 2). Ivan Markov. Crystal Growth for Beginners.
ДИСЛОКАЦИИ КАКДислокации1 ИСТОЧНИК СТУПЕНЕЙ Кристаллы растут с заметной скоростью при переохлаждениях меньших, чем критическое. Folmer: рост кристаллов йода при пересыщениях ~1% Расхождение с теорией в e3600 раз, точнее - в e3100 Barton, Cabrera, Frank. Nature 1949 • • Схемы винтовой дислокации (а) и дислокационного холмика, формируемого двумя дислокациями (б, в). Скорость роста по дислокационному механизму зависит от величины пересыщения по параболическому закону. Л.Н. Рашкович“Физика кристаллизации (2015)
Визуализация дислокационных холмиков Дислокационные холмики на грани призмы KDP (KH2PO4). Рост из раствора Разность высот между линиями 0,2 мкм Спиральный рост кристаллов SiC • • • Дислокации – дефекты кристалла • Necking – позволяет избежать прорастания дислокаций из затравки • Плотность дислокаций 102 - 104 см-2 Источники дислокаций при росте из расплава: термоупругие напряжения, примеси, прорастание из затравки Низкоградиентная технология снижает термоупругие напряжения
Зависимость скорости кристаллизации от пересыщения для разных механизмов роста Ichiro Sunagawa 1. Crystals. Growth, Morphology, and Perfection 2. Growth and Morphology of Crystals. Forma, 14, 147–166, 1999 Термодинамическая и кинетическая шероховатость Вопросы морфологической устойчивости
The end… • • • • • • • Дефекты в кристаллах Легирование и распределение примесей Концентрационным переохлаждение Морфологическая устойчивость и ячеистый рост кристаллов Фрактальный рост …………………….. …………………….